Vacancy No. 20-2018-IMT

Promotion zum Thema: Entwicklung von Komponenten für höchstauflösende Röntgen-Phasenkontrast-Bildgebung

 

Job description

Röntgenbildgebung auf Basis von gitterbasierter Interferometrie ermöglicht die Analyse von Materialien mit geringem Absorptionskontrast wie z. B. Polymere und Verbundmaterialien oder biologische Materialien. Da nicht die Absorption sondern die Phasenverschiebung der Röntgenstrahlung durch das Material analysiert wird, hat die neue Methode großes Potential, zukünftig in der klinischen Diagnostik oder der zerstörungsfreien Prüfung in Fertigungsprozessen kommerziell eingesetzt zu werden. Entscheidende Komponenten um den Phasenkontrast sichtbar zu machen sind Röntgengitter mit großem Aspektverhältnis und Perioden im Mikrometerbereich. Deren Herstellung erfolgt mit Röntgenlithographie und Galvanik am Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT). Das IMT ist dabei weltweit führend. 

Derzeit ist die Fertigung der Röntgengitter in großer Höhe auf Perioden größer 5 µm beschränkt, was die minimale räumliche Auflösung einschränkt. Um diese Einschränkung auch bei großen Sehfeldern zu überwinden, wird in einem deutsch-japanischen Projekt zusammen mit den Firmen microworks und Hamamatsu Photonics sowie der Tohoku Universität die „Phasenbildgebung mit Hyperresolution“ (HyReXPI) entwickelt. Dies erfordert speziell geformte Gitter, die auch eine Signalanalyse in der Fläche ermöglichen.

Im Rahmen der Doktorarbeit sollen solche Gitter entwickelt werden. Dabei werden unterschiedliche Ansätze verfolgt. Da auch 2D-Gitter mit freier Form realisiert werden müssen, soll geprüft werden, ob die 3D-Lithography zur Strukturierung der Gitter eingesetzt und weiterentwickelt werden kann. Die Realisierung der 2D- Gitterarrays erfordert neue Strategien zur Stabilisierung von Mikrostrukturen mit hohem Aspektverhältnis. Für das Design der Gitterstrukturen werden in enger Zusammenarbeit mit Wissenschaftlern an der Tohoku Universität Wellenfeldsimulationen sowie die Charakterisierung der neuen Gitter durchgeführt. In diesem Zusammenhang ist ein mehrmonatiger Forschungsaufenthalt in Japan vorgesehen.

 

Personal qualification

Wir erwarten ein Hochschulstudium (Diplom (UNI)/Master) der Fachrichtung Physik, Elektrotechnik oder Maschinenbau  mit einem überdurchschnittlichen Abschluss. Kenntnisse in Optik, Interesse an optischer Simulation und experimentellen Tätigkeiten sind erwünscht.

 

Organizational unit

Institute of Microstructure Technology (IMT)

Starting date

baldmöglichst

Vertragsdauer

befristet auf 3 Jahre

Bewerbungsfrist bis

30.11.2018

Fachliche/r Ansprechpartner/in

Fachliche Auskünfte erteilt Ihnen gerne Herr Dr. Mohr, IMT, Telefon 0721- 608-24433, email: juergen.mohr@kit.edu.

Application

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Personnel support is provided by 

Ms Gätcke
phone: +49 721 608-25010,

Hermann-von-Helmholtz-Platz 1, 76344 Eggenstein-Leopoldshafen, Germany

If qualified, handicapped applicants will be preferred.